1. Dry etching for microelectronics
پدیدآورنده : edited by Ronald A. Powell
کتابخانه: Central Library of Ahvaz Faculty of Petroleum (Khuzestan)
موضوع : Semiconductors- Etching,Plasma etching
رده :
TK
,
7871
.
85
,.
D79
,
1984
2. Dry etching technology for semiconductors
پدیدآورنده : Nojiri, Kazuo
کتابخانه: Library of Institute for Research in Fundamental Sciences (Tehran)
موضوع : ، Plasma etching,، Semiconductors -- Etching
رده :
TA
2020
.
N64D713
3. Handbook of plasma processing technology
پدیدآورنده : / edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
کتابخانه: Central Library and Information Center of the University of Mohaghegh Ardabili (Ardabil)
موضوع : Plasma engineering,Semiconductors- Etching,Plasma etching
رده :
TA2020
.
H37
1990
4. Handbook of plasma processing technology
پدیدآورنده : edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood.
کتابخانه: Center and Library of Islamic Studies in European Languages (Qom)
موضوع : Plasma engineering.,Plasma etching.,Semiconductors-- Etching.
رده :
TA2020
.
H37
1990eb
5. Handbook of plasma processing technology
پدیدآورنده : / edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
کتابخانه: Central Library, Center of Documentation and Supply of Scientific Resources (East Azarbaijan)
موضوع : Plasma engineering,Semiconductors, Etching,Plasma etching
رده :
TA2020
.
H37
1990
6. Handbook of plasma processing technology
پدیدآورنده : edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood.
کتابخانه: Center and Library of Islamic Studies in European Languages (Qom)
موضوع : Plasma engineering.,Plasma etching.,Semiconductors-- Etching.
رده :
TA2020
.
H37
1990eb
7. Handbook of plasma processing technology :fundamentals, etching, deposition, and surface interactions
پدیدآورنده : edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
کتابخانه: Central Library and Documents Center of Industrial University of Khaje Nasiredin Toosi (Tehran)
موضوع : ، Plasma engineering,Etching ، Semiconductors,، Plasma etching
رده :
TA
2020
.
H37
8. Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions
پدیدآورنده : edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
موضوع : Plasma engineering,Semiconductors - Etching,Plasma etching
۲ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
9. Introduction to microlithography
پدیدآورنده :
کتابخانه: Central Library of Sharif University of Technology (Tehran)
موضوع : Congresses ، Microlithography,Congresses ، Photoresists,Congresses ، Plasma etching,Congresses ، Semiconductors-- Etching
رده :
TR
940
.
I57
1994
10. Plasma Etching Fundamentals and Applications
پدیدآورنده : / by M.Sugawara with contributions From Barry L.Stands Field
کتابخانه: Central Library and Document Center of Arak University (Markazi)
موضوع : Plasma-etching,Semiconductors-Etching
رده :
621
.
381531
S947P
11. Plasma etching
پدیدآورنده : M. Sugawara; with contributions from Barry L. Stonfield...[et al.]&
کتابخانه: Library of Institute For Color Science and Technology (Tehran)
موضوع : Semiconductors--Etching,Plasma etching
12. Plasma etching : fundamentals and applications
پدیدآورنده : Sugawara, Minoru
کتابخانه: Library of Institute for Research in Fundamental Sciences (Tehran)
موضوع : Etching ، Semiconductors,، Plasma etching
رده :
TK
7871
.
85
.
S9
13. Plasma etching : fundamentals and applications
پدیدآورنده : Sugawara, M. )Minoru(
کتابخانه: Library of Razi Metallurgical Research Center (Tehran)
موضوع : Etching ، Semiconductors,، Plasma etching
رده :
TK
7871
.
85
.
S88
1998
14. Plasma etching: fundamentals and applications
پدیدآورنده : Sugawara, M.)Minoru(
کتابخانه: Central Library of Sharif University of Technology (Tehran)
موضوع : ، Semiconductors-- Etching,، Plasma etching
رده :
TK
7871
.
85
.
S88
1998
15. Plasma etching: fundamentals and applications
پدیدآورنده : Sugawara, Minoru
کتابخانه: Central Library and Documents Center of Industrial University of Khaje Nasiredin Toosi (Tehran)
موضوع : ، Semiconductors - Etching,، Plasma etching
رده :
TK
7871
.
85
.
S88
16. Plasma processes for semiconductor fabrication /
پدیدآورنده : W.N.G. Hitchon.
کتابخانه: Center and Library of Islamic Studies in European Languages (Qom)
موضوع : Plasma etching.,Semiconductors-- Etching.
رده :
TK7871
.
85
.
H54
1999eb
17. Plasma processes for semiconductor fabrication /
پدیدآورنده : W.N.G. Hitchon.
کتابخانه: Center and Library of Islamic Studies in European Languages (Qom)
موضوع : Plasma etching.,Semiconductors-- Etching.
رده :
TK7871
.
85
.
H54
1999eb
